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IoN Wave 10E等离子去胶机
IoN Wave 10E等离子去胶机的图片
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产品简介

IoN Wave 10E等离子去胶机是我们在微波等离子处理工艺中的**产品。该批次式晶圆灰化设备成本低廉、尺寸适中、性能先进,特别适用于工厂、科研院所等领域。

IoN Wave 10E使用**的、性能出色的组件和软件,可对工艺参数进行精确控制。它的工艺监测和数据采集软件可实现*严格的质量控制。该技术已经成功的应用于功率晶体管、模拟器件、传感器、光学器件、光电、MEMS/MOEMS、生物器件、LED等领域。

IoN Wave 10E占地面积很小,安装和维护简单。依靠微波等离子技术,该设备在提供极高的光刻胶灰化速度的同时,**程度的降低了产品暴露在静电放电(ESD)中。


先进的功能性:

  • 台式设计,占地面积小

  • 石英腔室**可容纳8寸的晶圆,*多同时装载25片6寸晶圆

  • 使用Windows操作系统的工业计算机控制

  • 符合Semi E95-1101要求的图形用户界面(GUI)

  • 软件提供了不同的用户访问权限:操作员、工艺编写、维护

  • 通过以太网进行远程工艺监测

  • 机载诊断功能和报警记录

  • 工艺编辑软件提供了快速灵活的步骤控制功能

  • 液晶触摸屏(LCD)操作面板

  • 基于在线网络的模拟、培训和支持程序

  • 安装简单快捷

 

典型应用

  •  去除光刻胶

  •  晶圆打胶

  •  湿法刻蚀前的晶圆清洁

  •  去除SU-8

  •  刻蚀钝化层

  •  失效分析中的器件开封

  •  清洁和表面活化

  •  化学微量分析中的低温材料灰化

  •  过滤器和滤膜的清洁

 

 

 

规格参数

工作腔室

材质                                            石英

尺寸                                            248mm直径 x 397 mm长

腔门处直径                                 241mm

容积                                           19.2 升

工艺气体控制                            *多至6路气体,MFC控制

基础压力                                    0.07 mbar (50 mTorr)

工艺压力                                    0.5 – 1.5 mbar (375 – 1125 mTorr)

抽真空时间                                大约1分钟

 

 

微波发生器

频率                                            2.45 GHz

输出功率                                    **1200W

 

 

供给需求

电源                                           220V,50 Hz,单相

工艺气体                                   输入压力1-2 Bar

压缩空气                                   4-6 Bar,流速** 56 升/分钟   (间歇式)

吹扫气体                                   1.3-2.7 Bar,流速** 28 升/分钟 (间歇式)

尺寸 宽/高/深                            775 x 749 x 781 mm

重量                                           135 千克

    

可选配置

  •  推拉门

  •  石英舟支撑杆

  •  温控板

  •  1%精度的真空规

  •  压力控制器

  •  指示灯柱

  •  条形码阅读器

  •  工艺气体切换器

  •  光谱终点检测器

  •  法拉第桶(次级等离子体)

  •  陶瓷腔室,耐化学腐蚀密封圈

  •  打印机

  •  油泵或干泵


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