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IoN Wave 10E等离子去胶机是我们在微波等离子处理工艺中的**产品。该批次式晶圆灰化设备成本低廉、尺寸适中、性能先进,特别适用于工厂、科研院所等领域。
IoN Wave 10E使用**的、性能出色的组件和软件,可对工艺参数进行精确控制。它的工艺监测和数据采集软件可实现*严格的质量控制。该技术已经成功的应用于功率晶体管、模拟器件、传感器、光学器件、光电、MEMS/MOEMS、生物器件、LED等领域。
IoN Wave 10E占地面积很小,安装和维护简单。依靠微波等离子技术,该设备在提供极高的光刻胶灰化速度的同时,**程度的降低了产品暴露在静电放电(ESD)中。
先进的功能性:
台式设计,占地面积小
石英腔室**可容纳8寸的晶圆,*多同时装载25片6寸晶圆
使用Windows操作系统的工业计算机控制
符合Semi E95-1101要求的图形用户界面(GUI)
软件提供了不同的用户访问权限:操作员、工艺编写、维护
通过以太网进行远程工艺监测
机载诊断功能和报警记录
工艺编辑软件提供了快速灵活的步骤控制功能
液晶触摸屏(LCD)操作面板
基于在线网络的模拟、培训和支持程序
安装简单快捷
典型应用
去除光刻胶
晶圆打胶
湿法刻蚀前的晶圆清洁
去除SU-8
刻蚀钝化层
失效分析中的器件开封
清洁和表面活化
化学微量分析中的低温材料灰化
过滤器和滤膜的清洁
规格参数
工作腔室
材质 石英
尺寸 248mm直径 x 397 mm长
腔门处直径 241mm
容积 19.2 升
工艺气体控制 *多至6路气体,MFC控制
基础压力 0.07 mbar (50 mTorr)
工艺压力 0.5 – 1.5 mbar (375 – 1125 mTorr)
抽真空时间 大约1分钟
微波发生器
频率 2.45 GHz
输出功率 **1200W
供给需求
电源 220V,50 Hz,单相
工艺气体 输入压力1-2 Bar
压缩空气 4-6 Bar,流速** 56 升/分钟 (间歇式)
吹扫气体 1.3-2.7 Bar,流速** 28 升/分钟 (间歇式)
尺寸 宽/高/深 775 x 749 x 781 mm
重量 135 千克
可选配置
推拉门
石英舟支撑杆
温控板
1%精度的真空规
压力控制器
指示灯柱
条形码阅读器
工艺气体切换器
光谱终点检测器
法拉第桶(次级等离子体)
陶瓷腔室,耐化学腐蚀密封圈
打印机
油泵或干泵
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